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产品先容

VS-300T 为九州酷游官网net自主研发的ALD原子层沉积装备。。。。。VS-300T 系列产品可搭载4个反应腔 ,,,,,结构紧凑 ,,,,,同时知足高产能需求 ,,,,,具有优异坪效比及CoO。。。。。该系列产品可沉积高质量的SiO、SiN、TiO薄膜 ,,,,,在匀称性、颗粒度、台阶笼罩率等方面抵达国际领先水平 ,,,,,知足逻辑、存储等客户先进手艺节点要求。。。。。


产品特点
- ALD薄膜在高深宽比(20:1)情形下台阶笼罩率可抵达95%
可搭载4个反应腔的高坪效比的新型五边形装备
优异工艺性能 ,,,,,具有优异的匀称性和保形性
通过S2清静认证和E47标准磨练


 
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